Erich Wiesmueller Analysegeraete/ Spektrometer
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GDL Spektrometer | Plasma Profiling TOFMS™

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GDL Spektrometer | Plasma Profiling TOFMS™
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 Überblick

Diese neue Instrumentierung kombiniert die Geschwindigkeit der GD Plasma-Sputterverfahren mit der Schnelligkeit und Empfindlichkeit eines Flugzeit-Massenspektrometer. Nach einer während eines EU-Projektes (www.emdpa.eu) forschte Phase wird das Gerät zur Verfügung stehen ab 2012 aber Prototypen sind bei HORIBA Jobin Yvon bereits verfügbar für die Demonstration.

Die Plasma-Profiling TOFMS bietet höhere Empfindlichkeit als GD OES und bietet Isotopen und molekularen Profile.

Eigenschaften

  • Schnelle Schaltschieber, um die TOF und Vakuumschnittstufen zu isolieren.
  • Mehrstufigen differentiellen Pumpen.
  • Ultra Fast Time of Flight-Massenspektrometer in orthogonalen Konfiguration ermöglicht für die Messung transiente Ionensignale von RF gepulstes Plasma erzeugt.
  • MCP-Detektor für hohe dynamische Echtzeitmessung der alle Elemente in jeder Tiefe.

Technische Daten

Ultra Fast und Sensitive Tiefenprofil und Schütt Elemental und Ultra Fast Sensitive Tiefe Isotopenmessung von leitfähigen und nicht leitfähigen Materialien und Schichten. Gleichzeitige Messung aller Elemente und Verbindungen aus Masse 1 bis 250 Masse - und vor, wenn nötig - bei jeder Tiefe (z-Tiefenprofil).

 

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